冠層分析儀的用途

　　冠層分析儀又叫葉面積指數儀，它是根據光線穿過介質減弱的比爾定律，在對植物冠層定義了一系列假設前提的條件下，采用半理論半經驗的公式，通過冠層孔隙率的測定，計算出冠層結構參數的儀器。

冠層分析儀的作用

　　冠層分析儀可測算植物冠層的太陽直射光透過率、天空散射光透過率、冠層的消光系數，葉面積指數和葉片平均傾角等，可用于農作物、果樹、森林內冠層受光狀況的測量和分析可用于不同植物群體結構的比較;可對農田作物群體生長過程進行動態監測適用于生態學野外植物群體動態監測的研究與教學;也適用于農業、園藝、林業領域有關栽培、育種、植物群體對比與發展的研究與教學。

　　冠層分析儀廣泛應用于農業生產和農業科研，為進行冠層光能資源調查，測量植物冠層中光線的攔截，研究作物的生長發育、產量品質與光能利用間的關系。

　　冠層分析儀使用400nm-700nm波段內的光合有效輻射(PAR)測量、記錄，測量值的單位是平方米·秒上的微摩爾(μmolm²/秒)。由于作物冠層測量儀主要測量作物葉片對光線的攔截，所以該儀器適用于比較低矮的作物，樹木等其他較高的植物，一般使用冠層分析儀。

冠層分析儀在果樹中的應用

　　葉面積指數是果樹冠層生物學特征的一個重要參數，它可以影響果園的產量、品質以及光能的截獲，在一定程度上決定了果園的生產效率。測量葉面積指數的方法有直接測量法和間接測量法，直接測量法具有破壞性，且費時費力、不能重復，操作困難難以測量葉面積的動態變化等。間接測量法分為相對生長法和光學法，應用比較廣泛。

　　冠層分析儀就是屬于光學法的，特點是攜帶方便，不需要進行額外的資料處理，可以直接給出葉面積指數值，原理是在假定植物冠層內的各元素隨機分布，依據冠層間隙度或光學特性反演葉面積指數。缺點是測量所得葉面積指數有著較大的偏差。葉片的聚集效應越強，偏差越大。因此在測量時，一般需要用直接法校正。

　　測量時根據果園的大小。分別設置3-5個測量點，在每個測量點再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數。方框取樣法是將方框隨機放在樹冠上，將方框內的的葉片全部摘下，用葉面積儀測量框內的葉面積，然后根據樹冠體積和栽植密度計算葉面積指數。測點的選擇與冠層分析儀方法相同。

　　冠層分析儀是分別對應測量天空5個范圍的散射輻射，這5個范圍的ZX視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°，分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度，并根據轉換模型估算葉面積指數。在每一個測點的冠層頂部測一次，下部重復測量6-10次，冠層下方的測量在同一水平面上，且在無直接輻射的條件下進行。為了避免光環境迅速的變化對測量結果的影響，選擇無直接輻射的條件下進行，然后用冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進一步加工以校正估值葉面積指數。

冠層分析儀在水稻中的應用

　　冠層分析儀是測量植物冠層中光線攔截，研究光能資源對水稻促進作用的植物生理儀器，可以使用冠層分析儀來研究水稻等作物的生長發育。要想水稻增產增收，可從以下幾點出發：

　　1、冠層分析儀可以實現適宜的葉面積動態。大面積產量不高首先還是葉面積的不足，沒有足夠葉面積以吸收充分的光能，而葉面積不足的主要原因還是土壤肥料問題，因此需要改良低產土壤，增辟肥源，合理施肥。

　　2、防御氣象災害與病蟲災害。水稻高產田的獲得都是在季節適宜、灌排條件良好，以及有效的病蟲FZ基礎上取得的。而大面積水稻受冷害、旱澇、風害、病蟲害威脅甚大。

　　3、改進栽培技術。目前高產水稻都是在先進的栽培技術下取得的，培育壯苗、合理密植、科學地進行肥水管理，以爭取合理的穗數，培育壯稈大穗，減少癟粒，提高粒重。

　　4、調整播栽期，使水稻抽穗灌漿期處在氣候上Z有利的時期。

　　5、冠層分析儀可以調整水稻種植制度，以適應當地氣候生態條件。

　　6、冠層分析儀分析水稻冠層狀況，冠層太大的話就會阻礙陽光照射里層，會影響水稻生長。