AURORA歐波同系列離子濺射儀特點

AURORA歐波同系列離子濺射儀：性能升級，應用拓展

在精密科學儀器領域，離子濺射儀以其在薄膜制備、表面處理等方面的獨特優勢，扮演著不可或缺的角色。AURORA歐波同系列離子濺射儀，憑借其深厚的技術積累和前瞻性的設計理念，為實驗室、科研機構、檢測單位及工業生產領域的用戶帶來了更高效、更穩定的解決方案。本文將深入剖析AURORA同系列離子濺射儀的核心特點，并結合實際應用場景，為您提供專業的參考。

控制，性能

AURORA同系列離子濺射儀在核心控制技術上實現了顯著突破，為用戶提供了前所未有的度與穩定性。

• 高功率密度射頻源： 采用高功率密度射頻（RF）源，最大輸出功率可達1000W，配合優化的匹配網絡，能夠實現更快速、更均勻的濺射速率。數據表明，在制備特定金屬薄膜時，其濺射速率相較于同類產品可提升15%-20%，顯著縮短了實驗周期。
• 微米級靶材利用率： 創新的靶材驅動與定位系統，配合先進的監控算法，使得靶材的利用率得到大幅提升。在典型應用中，靶材利用率可達85%以上，有效降低了耗材成本，并延長了設備運行周期。
• 精準的偏壓控制： ±500V的寬范圍偏壓控制，能夠精確調節濺射過程中的離子轟擊能量，從而優化薄膜的致密性、導電性及附著力。這對于制備高品質的半導體薄膜、光學涂層以及硬質合金涂層至關重要。
• 真空系統優化： 集成高真空度（<1x10?? Pa）的分子泵和機械泵組合，確保了濺射過程的潔凈度。快速的抽真空時間（從常壓至1x10?? Pa僅需15分鐘）也極大地提升了設備的使用效率。

模塊化設計，靈活配置

AURORA同系列離子濺射儀秉承模塊化設計理念，能夠根據用戶的具體需求進行靈活配置，滿足多樣化的應用場景。

• 多腔體結構： 可選配單腔體或多腔體結構，支持連續或多工藝流程操作，提高生產效率。
• 多種濺射源可選： 除了標準的RF濺射源，還可配置磁控濺射源、直流磁控濺射源（DC）等，以適應不同材料的濺射需求。
• 加熱及基片旋轉功能： 集成高精度控溫系統（最高可達600°C）和勻速旋轉基片臺，確保薄膜在沉積過程中的均勻性和均一性。
• 氣體引入系統： 精確控制Ar、O?、N?等工作氣體及反應氣體的流量，支持多種氣體混合濺射，為復雜功能薄膜的制備提供可能。

智能互聯，操作簡便

AURORA同系列離子濺射儀融入了先進的智能化控制系統，極大地提升了用戶體驗和數據管理能力。

• 觸摸屏人機界面： 直觀的觸摸屏操作界面，集成了工藝參數的設定、實時監控、數據記錄與分析等功能，操作簡便直觀。
• 程序化工藝管理： 支持多達100個工藝程序的存儲與調用，用戶可根據不同材料和應用場景，預設并快速切換工藝參數。
• 遠程監控與診斷： 可選配遠程監控模塊，實現設備狀態的實時查看，并支持遠程故障診斷和技術支持，降低了維護成本。
• 數據追溯與報告生成： 詳細記錄每次工藝過程的關鍵參數，并可自動生成工藝報告，便于實驗數據的追溯、分析與質量控制。

應用領域廣泛

AURORA同系列離子濺射儀憑借其的性能和靈活的配置，廣泛應用于：

• 半導體制造： 金屬柵極、互連層、阻擋層等薄膜沉積。
• 光電子器件： 高反射率鏡片、減反射膜、濾光片等光學涂層。
• 表面改性： 提高材料的耐磨性、耐腐蝕性、導電性、生物相容性等。
• 材料科學研究： 新型功能薄膜材料的探索與制備。
• 檢測分析： 金標、鉑標等電鏡樣品制備。

AURORA歐波同系列離子濺射儀，以其的性能、靈活的配置和智能化的操作，為科研和工業生產提供了強大的技術支撐，是您值得信賴的精密設備之選。