光刻膠無損測厚儀

光刻膠測量的“安全”專家

 非曝光波段光源｜避開敏感波段，杜絕膠層變性

 原位無損檢測法｜無需破壞樣品，實時監控工藝

 納米級超高精度｜消除基底干擾，精準把控厚度

傳統光刻膠測量的挑戰

?樣品損傷｜強光照射致膠層曝光變性

? 測量誤差｜復雜基底與多層結構干擾

?效率低下｜手動對焦耗時，重復性差

?工藝隱患｜接觸式測量引入顆粒污染

悉識科技膜厚儀：專業無損測量光刻膠

物理級安全防線

剔除紫外波段，確保光刻膠“零曝光、零變性”

 穿透厚膜的“火眼金睛”

針對百微米超厚光刻膠，實現高信噪比測量

?厚度(d)與光學常數(n, k)智能解算

自動解析厚度峰值，無需人工擬合，秒級出數

產品特色

極致性能

?15nm – 1.5mm (量程覆蓋薄膜至厚膜)

?< 0.02 nm (靜態測量穩定性)

?多層全參解析 (含厚度及 n、k)

靈活定制

?0.2mm-2mm光斑 (可選配微小光斑)

?便攜/在線 (支持手提箱及產線集成)

?100% 國產 (軟硬件自主可控)

智能算法

?PolarX (自研核心算法引擎)

?1秒出數 (一鍵全自動擬合)

?無門檻 (流程極簡，快速上手)