小型離子濺射儀可以用來濺射銅嗎

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：

1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術加上先進的數學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm  太厚磁場無法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調節：1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。

小型濺射儀儀問儀答

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：

1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術加上先進的數學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm 太厚磁場無法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調節：1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。

               鄭科探小型濺射儀功能優勢

1、樣品臺旋轉，多樣品同時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。

2、預濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質，擋板可以保護樣品，提高薄膜質量

3、帶有水冷系統，可以長時間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。

4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬最快能達到1-2納米每秒，

5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。

6、可擴展膜厚監測，監測薄膜厚度。

濺射儀使用需注

1 靶材需要良好的導電性, 如果具備這個條件  可以鍍    

2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色