托托科技無掩模光刻機(jī)TTT-07-UV Litho-ACA Pro

在電子通信行業(yè)蓬勃發(fā)展的大背景下，集成電路產(chǎn)業(yè)迎來了以光刻技術(shù)為核心技術(shù)的爆炸式需求。利用紫外光源對紫外敏感的光刻膠進(jìn)行空間選擇性的曝光，進(jìn)而將設(shè)計(jì)好電路版圖轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路，這一工藝就是紫外光刻技術(shù)。實(shí)現(xiàn)光刻工藝的設(shè)備一般稱之為光刻機(jī)，或?yàn)槠毓鈾C(jī)。光刻機(jī)的分辨率和套刻精度直接決定了所制造的集成電路的集成度，也成為了評價(jià)光刻設(shè)備品質(zhì)的關(guān)鍵指標(biāo)。

光刻機(jī)作為生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，有接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)、投影式光刻機(jī)等類型。而這些類型的常規(guī)光刻機(jī)需要定制價(jià)格高昂的光學(xué)掩模版，同時(shí)，任何設(shè)計(jì)上的變動都需要掩模版重新制造也使得它有著靈活性差的劣勢。激光直寫設(shè)備具備很高的靈活性，且可以達(dá)到較高的精度，但逐行掃描的模式使得曝光效率較低。出于同時(shí)追求高精度、高效率、強(qiáng)靈活性、低損耗，在投影式光刻機(jī)基礎(chǔ)上，無掩模版紫外光刻機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。近些年，基于空間光調(diào)制器（DMD/DLP）的技術(shù)在紫外曝光方面獲得了長足的進(jìn)展。

TTT-07-UV Litho-ACA Pro無掩模版紫外光刻機(jī)的特征尺寸為0.6 μm（光刻鏡頭C），高性能無鐵芯直線驅(qū)動電機(jī)保證了套刻精度和高達(dá)6英寸畫幅的圖形拼接，而基于空間光調(diào)制器的光刻技術(shù)，使得其在光學(xué)掩模版設(shè)計(jì)上有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢。高效、靈活、高分辨率和高套刻精度等眾多優(yōu)點(diǎn)，必將使其成為二維材料、電輸運(yùn)測試，光電測試、太赫茲器件和毫米波器件等領(lǐng)域的科研利器。

【產(chǎn)品亮點(diǎn)】

步進(jìn)式光刻

更高的精度

激光主動對焦

6 英寸加工幅面

特征尺寸0.4 μm

【應(yīng)用示例】

微流道芯片

微納結(jié)構(gòu)曝光

電輸運(yùn)測試/光電測試器件
二維材料的電極搭建

太赫茲/毫米波器件制備

光學(xué)掩模版的制作

【系統(tǒng)升級選項(xiàng)】

激光光源

主動隔振平臺

3D重構(gòu)觀測

手套箱內(nèi)集成

【安裝需求】

溫度：20-40℃

濕度：RH<60%
電源：220V，50Hz