離子濺射儀指標(biāo)參數(shù)

離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對(duì)于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對(duì)試樣表面進(jìn)行清潔，之后試樣復(fù)原，再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。

相對(duì)于低真空濺射，高真空離子濺射儀所進(jìn)行的高真空濺射有著更加小的粒度。

1、通過(guò)膜厚監(jiān)控

（1）將總電源打開(kāi)，將氬氣開(kāi)關(guān)打開(kāi)（兩成保持在大約0.035兆帕，在濺射時(shí)也需要對(duì)氬氣的流量加以留心）

（2）將主機(jī)背面的開(kāi)關(guān)按鈕按下，往開(kāi)機(jī)界面進(jìn)入，按照提示進(jìn)行下面一系列的操作。

（3）接下來(lái)儀器就開(kāi)始自動(dòng)洗靶，自動(dòng)濺射，在濺射完成以后，等上一段時(shí)間，之后將stop按下放氣，等到放氣操作結(jié)束以后，將蓋子打開(kāi)，將樣品取出。

（4）Target B type與上面的操作步驟相同

2、不通過(guò)膜厚監(jiān)控

（1）其它操作步驟與上述的操作步驟相同，然而需要按照自己的需要對(duì)濺射電流和濺射時(shí)間zui長(zhǎng)時(shí)間為4分鐘）

以及循環(huán)次數(shù)（zui多循環(huán)9次）進(jìn)行設(shè)置，將上下鍵按下來(lái)對(duì)時(shí)間進(jìn)行設(shè)置。

（2）接下來(lái)儀器的自動(dòng)洗靶就自動(dòng)開(kāi)始，自動(dòng)濺射，在濺射完成以后，等上一段時(shí)間，之后將stop按下放氣，等到放氣操作結(jié)束以后，將蓋子打開(kāi)，將樣品取出。

（3）B靶操作和A靶相同。

離子濺射儀指標(biāo)參數(shù)

外形尺寸： 424× 290×265 毫米 

工作電壓： 200-240VAC 50赫茲

濺射電壓： DC2400伏特     

控制模式： 微處理器控制

zui大功率： 500瓦特       

濺射電流：不超過(guò)30 毫安

濺射時(shí)間：不超過(guò)600秒    

 極限真空 ：0.1帕

工作真空：不超過(guò)30Pa    

 膜層厚度： 內(nèi)置膜厚估算（金靶）

真空測(cè)量：電阻規(guī)   

真空 速 率：小于每秒兩升