離子濺射儀鍍膜原理和結(jié)構(gòu)

離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復(fù)原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。

離子濺射儀用途：

離子濺射儀為一種鍍膜裝置，能夠被掃描電鏡、電子探針等儀器用來對試樣進行制備，為使教學(xué)科研實驗得以開展的必備儀器。

離子濺射儀鍍膜原理與結(jié)構(gòu)：

離子濺射儀鍍膜基本原理為以荷能正離子對靶電極轟擊使得濺射現(xiàn)象產(chǎn)生為基礎(chǔ)。在基臺上樣品表面靶被濺射出來的中性原子沉淀成膜，使得導(dǎo)電層形成。

該離子濺射儀為二極結(jié)構(gòu)，通過臺和樣品架為正電極連接儀器外殼并且接地，負(fù)電極(加負(fù)高壓)為濺射靶電極。其在玻璃罩的真空腔內(nèi)被安裝，當(dāng)腔內(nèi)達(dá)到一定真空度，其中在電場加速下，足夠能量為正離子所獲得來對負(fù)電極上的靶面進行轟擊，靶面被濺射原子于基臺的樣品表面沉淀使得導(dǎo)電膜形成，提供來被上述儀器進行分析。

離子濺射儀特點：

1、能夠按到實驗需要對濺射操作的工藝參數(shù)進行自由的設(shè)置，能夠更加方便以及靈活的使用。

2、真空鎖保護設(shè)置為儀器所具有，使得儀器具有更加好的安全性與可靠性。

3、真空鎖保護設(shè)置為儀器所具有，使得儀器具有更加好的可靠性與安全性。

4、更加人性化的設(shè)計，有著更好的整體性。

5、單片機控制，能夠方便簡潔地進行操作。