小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)
美國(guó)Lake Shore Microscopy顯微光學(xué)超導(dǎo)磁體系統(tǒng)
美國(guó)Lake Shore Room temperature bore室溫孔超導(dǎo)磁體
美國(guó)Lake Shore OptiMag濕式超導(dǎo)磁體系統(tǒng)
美國(guó)Lake Shore 無(wú)液氦超導(dǎo)磁體系統(tǒng)-DryMag
美國(guó)Lake Shore SuperOptiMag濕式超導(dǎo)磁體系統(tǒng)
 | 傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法，克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開(kāi)關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫(xiě)光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無(wú)掩膜直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。 |
| 產(chǎn)品特點(diǎn) | ||
| Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向 高精度100 nm，方便快捷。 | |
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| 直寫(xiě)前預(yù)檢查 軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫(xiě)準(zhǔn)確。 | 標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。 | |
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| 簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。 | Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 ? 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等） ? 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ? 書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定 | |
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| Microwriter ML3 | 基本型 | 增強(qiáng)型 | 旗艦型 |
| 大樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
| 大直寫(xiě)面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
| 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選） |
| 直寫(xiě)分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
| 直寫(xiě)速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
| 對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 and x10 自動(dòng)切換 | x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換 |
| 多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
| 小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
| 樣品臺(tái)小步長(zhǎng) | 100nm | 100nm | 50nm |
| 光學(xué)輪廓Z分辨率 | 無(wú)(可升級(jí)) | 300nm | 100nm |
| 樣品表面自動(dòng)對(duì)焦 | 是 | 是 | 是 |
| 灰度直寫(xiě)(255級(jí)) | 是 | 是 | 是 |
| 自動(dòng)晶片檢查工具 | 無(wú)(可升級(jí)) | 有 | 有 |
| 溫控樣品腔室 | 無(wú) (可升級(jí)) | 無(wú) (可升級(jí)) | 有 |
| 虛擬模板校準(zhǔn)工具 | 無(wú)(可升級(jí)) | 無(wú)(可升級(jí)) | 有 |
| 氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái) | 無(wú)(可升級(jí)) | 無(wú)(可升級(jí)) | 有 |
直寫(xiě)分辨率1μm  |
直寫(xiě)分辨率0.6μm  |
微電極制備 光刻膠上的圖形 Au電極 （SEM） Au電極（SEM）    |
設(shè)計(jì)圖 光刻膠上的圖 形 放大圖的顯微結(jié)構(gòu)    |
微結(jié)構(gòu)制備     |
微流通道制備   |
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢3301次樣品制備
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢6557次UV-Smart
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢4194次光刻系統(tǒng)
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢3671次無(wú)掩膜光刻設(shè)備
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢2719次光刻機(jī)
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢411次科時(shí)達(dá)
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢106次拉曼光譜儀
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢124次大型儀器設(shè)備
步進(jìn)式光刻 更高的精度 激光主動(dòng)對(duì)焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本設(shè)備是我公司專門針對(duì)各大、專院校及科研單位研發(fā)使用的一種精密光刻機(jī)，主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
采用AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度優(yōu)于1nm，高精度套刻對(duì)準(zhǔn)，結(jié)構(gòu)邊緣超平滑，可輕松構(gòu)建1微米以下線寬結(jié)構(gòu)。 先進(jìn)的AOD激光操控技術(shù)，使得DaLI具有超高的激光定位精度（優(yōu)于1nm），超長(zhǎng)的有效壽命，以及極高的穩(wěn)定性。DaLI主要適用于廣泛應(yīng)用于MEMS、材料科學(xué)、微流控、微光學(xué)器件及其它微納加工領(lǐng)域。
主要優(yōu)勢(shì) ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫(xiě) ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
創(chuàng)新采用三柔性支點(diǎn)實(shí)現(xiàn)高精度自動(dòng)調(diào)平；真空接觸自動(dòng)曝光；樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復(fù)位實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制；采用積木錯(cuò)位蠅眼透鏡實(shí)現(xiàn)高均勻照明；可連續(xù)設(shè)定分離間隙；采用雙目雙視場(chǎng)顯微鏡實(shí)現(xiàn)高對(duì)準(zhǔn)精度。整機(jī)具有性能可靠、操作方便、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)。
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