掃描透射電鏡/掃描透射電子顯微鏡

Spectra新的檢測功能，使科學家和工程師能夠獲得以前難以獲得的原子級數(shù)據(jù)，以滿足更廣泛的應用需求。該平臺可以獲得極其光束敏感的材料和半導體結構的詳細圖像，包括金屬有機框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長時間或在錯誤的電壓下可能會損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對大量原子級化學分析的不斷增長的需求。

Phenom Pharos STEM 臺式場發(fā)射電子顯微鏡，從另一個維度提高了其成像能力和 應用的多樣性。 Pharos STEM 電子顯微鏡，利用 FEG 高亮度電子源，可在透射模式下對薄樣品進行成像。專用的樣品夾可輕松裝載常規(guī) 3mm 直徑透射電鏡(TEM)載網，實現(xiàn)樣品的快速、安全切換。可提供明場 (BF) 、暗場 (DF) 和高角度環(huán)形暗場 (HAADF) 像，并支持自定義選擇成像模式。

專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司(總經理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級納米技術研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標準型號顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時，探針電流提高了10倍。

該平臺可以獲得極其光束敏感的材料和半導體結構的詳細圖像，包括金屬有機框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長時間或在錯誤的電壓下可能會損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對大量原子級化學分析的不斷增長的需求。

?更高亮度的電子源 ?更簡單的電氣特性分析 ?高動態(tài)范圍映射