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胤煌高濃度納米粒度及zeta電位分析儀zeta-aps應用領域

來源:蘇州胤煌精密儀器科技有限公司 更新時間:2025-12-12 09:00:23 閱讀量:59
導讀:產品線圍繞高濃度樣品的粒徑分布與zeta電位耦合測量,幫助客戶在涂料、催化劑、納米藥物載體、能源材料等領域實現快速、可靠的定量分析與工藝優化。

胤煌高濃度納米粒度及zeta電位分析儀 zeta-aps 以高穩定性的光散射與電泳分析技術為核心,面向實驗室、科研機構和工業現場的高濃度樣品表征需求。產品線圍繞高濃度樣品的粒徑分布與zeta電位耦合測量,幫助客戶在涂料、催化劑、納米藥物載體、能源材料等領域實現快速、可靠的定量分析與工藝優化。


核心參數與規格


  • 粒徑測量范圍:0.3 nm – 10 μm,覆蓋從納米級膠體到微粒體系的全覆蓋段,支持單峰與雙峰/多峰擬合輸出。
  • zeta 電位測量范圍:-200 mV ~ +200 mV(水相體系常用區),特定有機介質可按需求拓展至 -300 mV ~ +300 mV,提供皮爾遜型誤差估計與重復性統計。
  • 測量模式:DLS(動態光散射)結合 EL S(電泳光散射)兩種模式聯用,可在單機內完成粒度與表面電性兩類表征的交叉分析。
  • 分辨率與重復性:粒徑相對標準偏差(RSD) 通常小于 2%,zeta 電位重復性優于 ±1.5 mV,長期穩定性受樣品 compatible 溶劑與溫控影響。
  • 樣品體積與稀釋:自動稀釋單元支持 1–50× 稀釋比,單次測量所需樣品體積不超過 200 μL,最小取樣量友好適配微量制樣。
  • 光源與探測:雙波長光源(532 nm 與 633 nm)可選,光路為無標記、全光學檢測,降低樣品改性需求,探測器具備低噪聲放大與溫控穩定。
  • 溫控與黏度適應性:樣品艙具備溫控模塊,溫度范圍 10–45°C,對高黏度體系的樣品可通過室溫與溫控并行校正實現更準確的粒徑與 zeta 波動分析。
  • 軟/硬件接口:自帶數據分析軟件,支持 CSV/PDF/圖表導出,兼容實驗室信息管理系統(LIMS)接口,支持網絡升級與云端日志。
  • 尺寸與電源:整機尺寸緊湊,功耗低,支持 100–240 V 交流電源,常溫下噪音低,便于置于標準工作臺或潔凈區。

型號與特點一覽


  • Zeta-APS-HP(高濃度通用版):
  • 適用場景:涂料、粘合劑、金屬納米顆粒、高濃度膠體溶液等。
  • 關鍵參數:粒徑 0.5 nm – 8 μm;zeta 電位 -180 mV ~ +180 mV;自動稀釋 up to 40×。
  • 特點:強力自動化稀釋、雙波長光源靈活切換、內置溫控模塊,綠色通道數據導出。
  • Zeta-APS-HT(高溫/高粘度專用):
  • 適用場景:高溫涂料體系、聚合物復合物、高黏度油相體系。
  • 關鍵參數:粒徑 0.3 nm – 6 μm;zeta 電位 -200 mV ~ +200 mV;溫控范圍 10–60°C。
  • 特點:高溫測量型腔體、低黏度誤差校正算法、耐化學性材料架構。
  • Zeta-APS-UL(超低體積/快速篩選):
  • 適用場景:藥物微粒篩選、納米載體初篩、教育培訓與現場快速檢測。
  • 關鍵參數:粒徑 0.5 nm – 3 μm;zeta 電位 -150 mV ~ +150 mV;極低體積測量(≤ 50 μL)。
  • 特點:極簡取樣、快速一次性測量、便攜式外部接口,圖表化報告直觀。

應用領域要點


  • 涂料與涂層:評估分散穩定性、粒徑分布對遮蓋力與流變性的影響,監控添加劑與分散劑的協同效應。
  • 納米藥物與載體:粒徑分布對體內分布、釋放曲線及穩定性影響的快速表征,zeta 電位作為膨脹/聚集趨勢的預測指標。
  • 催化劑與能源材料:金屬納米顆粒尺寸與表面電性對催化活性與界面電荷傳導的影響分析,輔助工藝放大與放大生產一致性控制。
  • 納米材料研發:從粒徑分布、團聚態到表面電性多參數耦合分析,支撐材料設計與工藝參數優化。

場景化FAQ


  • 高濃度樣品如何獲得可靠的粒徑與 zeta 測量?通常通過內置自動稀釋與分段校正組合,先在低黏度緩釋環境下建立基線,再對高濃度區域進行多點測量取平均,確保散射強度在儀器線性范圍內。
  • 如何選擇合適的波長與模式?對于粒徑偏小的納米顆粒,532 nm 模式在散射強度和信噪比上更有優勢;對于含有大顆粒或高反射材料,633 nm 模式可以減少多散射影響,EL S 模式用于并行獲得 zeta 與粒徑信息。
  • 可分析的介質和溶劑有哪些限制?以水相體系為主,常規有機溶劑需事先確認粘度、折射率與顆粒穩定性;高鹽、高離子強度體系需做稀釋配比與溫控補償。
  • 數據輸出與合規性如何保障?軟件支持原始數據導出、趨勢分析、報告模板生成,CSV/PDF 導出,便于追溯與實驗室合規審閱。
  • 維護與校準頻率建議?日常自檢包括光路清潔、探頭對準和溫控校驗;建議每月一次全量校準,配合廠家提供的標準溶液進行周期性驗證。
  • 如何最大化高濃度測量的重復性?確保樣品均勻混合、避免氣泡、使用同批次制備的緩釋介質,取樣點之間保持一致的體積與取樣時間間隔。

總結性判斷 zeta-aps 系列在高濃度納米粒度及 zeta 電位分析領域提供了一體化的測量解決方案,結合自動稀釋、雙波長光源、靈活的溫控與直觀的軟件界面,幫助實驗室快速獲得高可靠性的粒徑與表面電性數據。無論是在工業放大前的工藝控制,還是在科研開發階段的材料表征,均可通過細致的參數設定與場景化應用,提升數據的可比性與決策效率。若需要,我可以根據您的具體行業、常用樣品類型和實驗室條件,進一步定制一份針對性選型清單與采購方案。


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