捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS 新一代超高分辨鎵離子FIB-SEM
捷克泰思肯 TESCAN AMBER 鎵離子型雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN SOLARIS X 氙等離子源雙束FIB系統(tǒng)
捷克泰思肯 TESCAN AMBER X 高分辨氙離子源雙束掃描電鏡
捷克泰思肯 TESCAN MIRA 場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品介紹:
TESCAN AMBER X 是wan美結(jié)合了分析型等離子 FIB 和超高分辨(UHR)掃描電鏡的綜合分析平臺(tái),能夠很好的應(yīng)對(duì)傳統(tǒng)的 Ga 離子 FIB-SEM 難以完成的困難挑戰(zhàn)。
TESCAN AMBER X 配置了氙(Xe)等離子 FIB 鏡筒和 BrightBeam? 電子鏡筒,能夠同時(shí)提供gao效率、大面積樣品刻蝕,以及無(wú)漏磁超高分辨成像,適用于各類傳統(tǒng)或新型材料的二維成像以及大尺度的 3D 結(jié)構(gòu)表征。擁有 AMBER X 不僅能夠滿足您現(xiàn)階段對(duì)材料探索的需求,也為您將來(lái)的研究工作做好充分的準(zhǔn)備。
AMBER X 等離子 FIB 不但能輕松應(yīng)對(duì)常規(guī)的樣品研磨和拋光工作,而且能快速制備出寬度可達(dá)1 毫米的截面。氙等離子束對(duì)樣品的損傷最小,且不會(huì)導(dǎo)致注入引起的污染和非晶化。氙是一種惰性元素,所以可以實(shí)現(xiàn)對(duì)鋁等材料進(jìn)行無(wú)污染的樣品制備和加工,不用擔(dān)心傳統(tǒng)鎵離子 FIB 加工時(shí)由于鎵離子污染或注入可能導(dǎo)致的微觀結(jié)構(gòu)和/或機(jī)械性能改變。
鏡筒內(nèi) SE 和 BSE 探測(cè)器經(jīng)過(guò)優(yōu)化,可以在 FIB-SEM 重合點(diǎn)位置獲得高質(zhì)量的圖像。TESCAN AMBER X 更有利于安裝各類附件的幾何設(shè)計(jì)為樣品的綜合分析提供了前所未有的潛力,而且還能夠進(jìn)行多模態(tài)的 FIB-SEM 層析成像。
TESCAN Essence? 是一款支持用戶可根據(jù)需求自定義界面的模塊化軟件。因此,TESCAN AMBER X 可以輕松的從一個(gè)多用戶、多用途的工作平臺(tái)轉(zhuǎn)變?yōu)橛糜趃ao效率、大面積 FIB 樣品加工的專用工具。
主要特點(diǎn):
● gao效率、大面積樣品刻蝕,zui大寬度可達(dá)1毫米的截面。
● 無(wú)鎵離子污染的樣品加工。
● 無(wú)漏磁的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,實(shí)現(xiàn)超高分辨成像和顯微分析。
● 鏡筒內(nèi)二次電子和鏡筒內(nèi)背散射電子探測(cè)器。
● 束斑優(yōu)化,可確保gao效率、多模態(tài) FIB-SEM 斷層掃描的效果。
● 超大的視野范圍,便于樣品導(dǎo)航。
● 可輕松操作的模塊化電鏡控制軟件 Essence?。
| (離子光學(xué)系統(tǒng))視野范圍: | 1 mm | (離子光學(xué)系統(tǒng))探針電流: | 1 pA – 2 μA |
| (離子光學(xué)系統(tǒng))分辨率: | <15 nm @ 30 keV | (離子光學(xué)系統(tǒng))發(fā)射源: | 氙等離子 |
| (電子光學(xué)系統(tǒng))視野范圍: | 7 mm @ WD=6 mm, >50 mm @ zui大工作距離 | (電子光學(xué)系統(tǒng))探針電流: | – 400 nA |
| (電子光學(xué)系統(tǒng))分辨率: | 0.9 nm @15 keV | (電子光學(xué)系統(tǒng))發(fā)射源: | 肖特基場(chǎng)發(fā)射 |
| 儀器分類: | FIB-SEM | 價(jià)格區(qū)間: | 1000萬(wàn)-1500萬(wàn) |
| 產(chǎn)地: | 進(jìn)口 |
報(bào)價(jià):面議
已咨詢4863次聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5251次聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):¥10000
已咨詢683次雙束聚焦掃描電鏡FIB-SEM
報(bào)價(jià):面議
已咨詢7633次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報(bào)價(jià):¥8000000
已咨詢357次FIB 聚焦離子束顯微鏡
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5491次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
報(bào)價(jià):¥10000
已咨詢869次雙束聚焦掃描電鏡FIB-SEM
報(bào)價(jià):面議
已咨詢5004次聚焦離子束顯微鏡
S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(簡(jiǎn)稱S-4800)為日本日立公司于2002年推出的產(chǎn)品。該電鏡的電子發(fā)射源為冷場(chǎng),物鏡為半浸沒(méi)式。在高加速電壓(15kV)下,S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm,這是目前半浸沒(méi)式冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡所能達(dá)到的最高水平。該電鏡在低加速電壓(1kV)下的二次電子圖像分辨率為2nm,這有利于觀察絕緣或?qū)щ娦圆畹臉悠贰-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場(chǎng)電鏡SU8000系列高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探測(cè)器設(shè)計(jì)上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三個(gè)Everhart-Thornley型探測(cè)器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號(hào),實(shí)現(xiàn)微區(qū)的形貌襯度、原子序數(shù)襯度、結(jié)晶襯度和電位襯度的觀測(cè);結(jié)合選配的STEM探測(cè)器。
日立SU-8010是日立高新技術(shù)的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 電子光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了最優(yōu)化處理,使得著陸電壓在1KV時(shí)分辨率較前代機(jī)型提高了約20%。另外,最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場(chǎng)電子槍可將樣品的細(xì)節(jié)放大,并獲得高質(zhì)量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬(wàn)倍提高到了800萬(wàn)倍。除此之外,為了能更好的應(yīng)對(duì)不同樣品的測(cè)試和保持并發(fā)揮出高性能,還對(duì)用戶輔助工能進(jìn)行了強(qiáng)化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛(wèi)性外觀設(shè)計(jì)還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制,簡(jiǎn)單化,從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像,除此意外,如果配備能譜分析系統(tǒng),在進(jìn)行獲得樣品表面像的時(shí)候,還可以對(duì)樣品的某個(gè)定點(diǎn)位置進(jìn)行元素的半定量分析。根據(jù)EDS分析出的元素比例,進(jìn)行擬合處理,可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
德國(guó)Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300 ,ZLGemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,超高的束流穩(wěn)定性,zhuo越的低電壓性能,In Lens 探測(cè)器,磁性材料高分辨觀察,ding級(jí)X射線分析設(shè)計(jì),便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì),超大空間,多接口,升級(jí)靈活。
德Zeiss 電子束直寫(xiě)儀 Sigma SEM,利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫(xiě)各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(Z小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。
德國(guó)Zeiss 場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡SIGMA 300,專利Gemini鏡筒,超高的束流穩(wěn)定性,卓越的低電壓性能,In Lens 探測(cè)器,磁性材料高分辨觀察,頂級(jí)X射線分析設(shè)計(jì),便越操作系統(tǒng)設(shè)計(jì),超大空間,多接口,升級(jí)靈活。