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產(chǎn)品中心

儀器網(wǎng)>產(chǎn)品中心>智能工業(yè)自動化>其它>光刻膠 更新時間:2026-02-03 01:45:36

光刻膠

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產(chǎn)品產(chǎn)地:
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不限 自營 代理 經(jīng)銷
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綜合
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    無掩模光刻機(jī),激光直寫系統(tǒng)

    韓國MIDAS 亞洲 韓國
    科睿設(shè)備有限公司
    光刻工藝是半導(dǎo)體工藝Z關(guān)鍵的步驟之一,用于圖形定義,直接決定半導(dǎo)體整線 工藝的水平。
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    德國 ALLRESIST 紫外光刻膠

    德國Allresist AR-P 1200,AR-U 4000,AR-N2200 歐洲 德國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    德國 ALLRESIST 紫外光刻膠,各種工藝:噴涂專用膠,化學(xué)放大膠,lift-off膠,圖形反轉(zhuǎn)膠,高分辨率膠,LIGA用膠等。各種波長: 深紫外(Deep UV)、I線(i-line)、G線(g-line)、長波(longwave)曝光用光刻膠。各種厚度: 光刻膠厚度可從幾十納米到上百微米。
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    富士負(fù)性PI LTC9000系列光刻膠

    富士 亞洲 日本
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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    ZEP520A 電子束光刻膠

    深圳一正 ZEP520A 廣東 深圳
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    ZEP520A是一種高性能正電子束電阻,具有高分辨率、高分辨率敏感性和耐干腐蝕性。適用于各種電子束工藝。
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    AZ 1500 系列i線光刻膠

    美國AZ technology AZ1500(1505,1518,1529,1514H,15 美洲 美國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    AZ 光刻膠 AZ1500 系列,其中型號AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)
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    英國EM SML Resist 電子束光刻膠

    英國EMS ,SML50,SML100,SML300,SM600,SML 歐洲 英國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    英國EM Resist 電子束光刻膠 SML Resist ,SML50,SML100,SML300,SM600,SML1000,SML2000
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    德國Allresist AR-P617 電子束光刻膠

    德國Allresist AR-P617 歐洲 德國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    德國Allresist 正電子束光刻膠 AR-P 610系列 用于納米光刻的 AR - P617電子束電阻 共聚物抗蝕劑系列用于生產(chǎn)集成電路和掩模
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    AR-P 6200正電子束光刻膠

    德國Allresist AR-P 6200 (CSA-62) 歐洲 德國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    德國Allresist 正電子束光刻膠 AR-P 6200 (CSA-62),高分辨率,用于生產(chǎn)集成電路和掩模的高對比度電子束電阻。
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    SU-8 2000 永 久性環(huán)氧負(fù)性光刻膠

    美國MicroChem SU-8 美洲 美國
    深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
    SU-8 2000是一種高對比度的環(huán)氧樹脂基光刻膠,適用于微加工和其他微電子應(yīng)用領(lǐng)域,需要厚、化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來被MEMS生產(chǎn)廠家廣泛使用。采用更快的干燥速度,更極性的溶劑體系,可改善涂層質(zhì)量,提高工藝吞吐量。SU-8 2000有12種標(biāo)準(zhǔn)粘度可供選擇。
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    Xpect Inx 光刻膠

    nanoscribe Xpect Inx 歐洲 德國
    納糯三維科技(上海)有限公司
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    Nanoscribe IP系列光刻膠

    nanoscribe IP 歐洲 德國
    納糯三維科技(上海)有限公司
    由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于超高分辨率微納加工的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有超高形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。
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    光刻膠

    LOR 美洲 美國
    香港電子器材有限公司
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    光刻膠干膜

    美國DJ Devcorp SUEX 美洲 美國
    香港電子器材有限公司
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    光刻膠

    gL2000 美洲 美國
    香港電子器材有限公司
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    光刻膠

    PriElex? SU-8 美洲 美國
    香港電子器材有限公司
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    冠乾科技 納米壓印膠 正性光刻膠 負(fù)性光刻膠 顯影液 去膠液

    冠乾科技 上海 浦東新區(qū)
    冠乾科技(上海)有限公司
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    Allresist 光刻膠 AR系列

    德國Allresist AllresistAR 歐洲 德國
    深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
    刻膠(resist) 概 述 光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(IC),封裝(Packaging),微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),光電子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板顯示器(LED,LCD,OLED),太陽能
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    Allresist 紫外光刻膠 AR-N 4600 (Atlas 46)

    德國Allresist AllresistAR-N4600(Atlas46) 歐洲 德國
    深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
    特點:? 紫外負(fù)膠(厚膠),適用于 LIGA 及 MEMS應(yīng)用? 涂膠厚度 10μm@1000rpm, 可提供更高厚度(200μm)? SX AR-N 4600-10 : 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性好、重復(fù)性好,厚度可達(dá)幾百 微米,適用于保留膠體結(jié)構(gòu)的應(yīng)用? SX AR-N 4650-10 : 容易去膠,適合于電鑄工藝
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    電子束光刻膠 AR-PC 5090.02, 5091.02(導(dǎo)電膠)

    德國Allresist AR-PC5090.02,5091.02() 歐洲 德國
    深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
    特點:? 用于消除電子束曝光、SEM成像、FIB等工藝中的荷電效應(yīng)? 通過旋涂的方式涂膠,操作簡單? 涂膠厚度:40nm @ 4000rpm? 電子束曝光后可溶于水,非常容易去除,且不損傷襯底材料? 對紫外光、電子束不敏感,無需黃光室 5090.02,適于PMMA、CSAR 62、 HSQ等。
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    Allresist 紫外光刻膠 AR-N 4400

    德國Allresist AllresistAR-N4400 歐洲 德國
    深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
    特點:? 用于耐刻蝕工藝、電鍍、LIGA、MEMS等? 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron? 涂膠厚度從幾微米到上百微米不等? 覆蓋能力強(qiáng),分辨率高,圖形邊緣結(jié)構(gòu)陡直? 化學(xué)放大膠,具有非常高的靈敏度? 可得到undercut結(jié)構(gòu),用于lift-off工藝? 可替代SU8膠 。
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    Allresist 電子束光刻膠 AR-N7700

    德國Allresist AllresistAR-N7700 歐洲 德國
    深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
    特點:? 用于高靈敏度電子束曝光、混合曝光等? 感光波段:e-beam、deep UV(248 nm)? 紫外曝光波段: 負(fù)膠:248nm~265nm & 290nm~330nm? 化學(xué)放大膠,高靈敏度? 良好的耐干法刻蝕能力。
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    Allresist 特殊功能光刻膠 SX AR-PC 5000/41

    德國Allresist AllresistSXAR-PC5000/41 歐洲 德國
    深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
    點:? 耐酸堿保護(hù)膠? 不含光敏物質(zhì),無需黃光室? 在40% KOH或50% HF酸中可長時間穩(wěn)定? 通過雙層工藝可實現(xiàn)正性(AR-P 3250) 或負(fù)性(AR-N 4400-05/10)光刻工藝 旋涂曲線。
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    ¥480000

    光刻膠激光顆粒計數(shù)器

    普洛帝 PMT-2 陜西 西安
    西安卡爾德工控技術(shù)有限公司
    PMT-2光刻膠激光顆粒計數(shù)器,采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測和分析,目前是英國普洛帝分析測試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。
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    硅片清洗機(jī) SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng) 那諾-馬斯特

    美國那諾-馬斯特 SWC-3000 美洲 美國
    那諾—馬斯特中國有限公司
    SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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    半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備 SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng) 那諾-馬斯特

    美國那諾-馬斯特 SWC-4000 美洲 美國
    那諾—馬斯特中國有限公司
    SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng):Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
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    ¥222222

    光刻膠微納米粒子檢測儀

    普洛帝 PMT-2 陜西 西安
    陜西普洛帝測控技術(shù)有限公司
    在線優(yōu)勢:清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線顆粒監(jiān)測和分析,都是PMT-2微納米監(jiān)測儀的經(jīng)典應(yīng)用場所,并為生產(chǎn)線上的重要組成部分。在線、實時、連續(xù)取樣、報警提示,能夠即時掌握顆粒污染診斷和趨勢。 離線優(yōu)勢:移動測量和固定測量顆粒大小及多少雙模式,解決連續(xù)跟蹤監(jiān)測的生產(chǎn)過程難題,無論您是即時測量還是清潔跟蹤監(jiān)測,都會為您提供完善的測試方案,讓您的測試更加快捷。

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SU-8 2005 光刻膠

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光刻膠SU-8 2000

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電子束曝光(EBL)阻劑/光刻膠

光刻膠

應(yīng)用方案

光刻膠無損測厚儀 半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)化進(jìn)程 負(fù)型光刻膠光刻流程 液體處理 | 助力光刻膠金屬雜質(zhì)分析 實測案例——光刻膠薄膜顯影過程的原位表征 【阿拉丁】光刻膠試劑:半導(dǎo)體精細(xì)制造的“像素基石” 破解光刻膠聚合物“雜質(zhì)密碼” | APC高效分離新應(yīng)用 GPC/APC技術(shù)揭曉光刻膠樹脂的分子級奧秘 半導(dǎo)體應(yīng)用專題 | 光刻膠用色漿均一性的 一體化解決方案 半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用專題 | 光刻膠用色漿均一性的一體化解決方案

行業(yè)資料

光刻膠 AR Flyer 光刻膠產(chǎn)品樣冊 光刻膠產(chǎn)品彩頁 光刻膠用色漿均一性解決方案 光刻膠薄膜的溶漲性能研究 卡爾費休容量法測定光刻膠去除液中的水分 第十二期 光刻膠——光刻圖形轉(zhuǎn)移工藝的重要媒介 NexION 300S ICP-MS 對光刻膠中的Si的分析 晶圓上的光刻膠殘留和有機(jī)污染物的可視化 英國EM R公司出品的PMMA系列光刻膠技術(shù)資料(1%-17%電子束曝光阻劑)

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