納克微束高分辨場發射掃描電鏡 FE-1050系列
電子背散射衍射EBSD
布魯克 電子背散射衍射儀 EBSD eflash FS
布魯克 電子背散射衍射儀 EBSD
德國布魯克 背散射衍射儀 QUANTAX EBSD
布魯克 電子背散射衍射儀 EBSD
產品介紹：
FE-1050場發射掃描電子顯微鏡，國內首 款領勢旗艦機型。
在新一代電子光學鏡筒的加持下，展現低電壓、高分辨的卓 越性能。
27個端口拓展、大艙室，輕松應對各類成像、分析需求。
極簡化操作、自動化交互、智能化特征識別統計，成倍提高工作效率。
終身售后保障，7*24售后響應。
以“質”為先，以“優”為本，助力微觀世界的探索與發現。
貼近用戶設計的系統交互操作，最 大簡化系統操作，即使沒有
電鏡使用經驗的用戶也可輕松上手。軟硬件結合的智能化操作
流程能夠真正將用戶從繁瑣的重復操作中解放出來。
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已咨詢6524次掃描電子顯微鏡
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已咨詢1942次電鏡附件
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已咨詢2063次電子背散射衍射系統EBSD
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已咨詢6674次場發射掃描電鏡
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已咨詢3544次場發射掃描電鏡
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已咨詢2463次場發射
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已咨詢1251次場發射掃描電鏡SEM5000
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已咨詢4849次掃描電鏡/掃描電子顯微鏡
S-4800型高分辨場發射掃描電鏡（簡稱S-4800）為日本日立公司于2002年推出的產品。該電鏡的電子發射源為冷場，物鏡為半浸沒式。在高加速電壓（15kV）下，S-4800的二次電子圖像分辨率為1 nm，這是目前半浸沒式冷場發射掃描電鏡所能達到的最高水平。該電鏡在低加速電壓（1kV）下的二次電子圖像分辨率為2nm，這有利于觀察絕緣或導電性差的樣品。S-4800的主要附件為X射線能譜儀。
二手 日立 SEM+EDX 冷場電鏡SU8000系列高分辨場發射掃描電鏡，其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm，并且在探測器設計上有新的突破，配置了Lower、Up-per和Top三個Everhart-Thornley型探測器，可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多種信號，實現微區的形貌襯度、原子序數襯度、結晶襯度和電位襯度的觀測；結合選配的STEM探測器。
日立SU-8010是日立高新技術的SEM的全新品牌，新品牌 "REGULUS系列" 電子光學系統進行了最優化處理，使得著陸電壓在1KV時分辨率較前代機型提高了約20％。另外，最適合低加速電壓下高分辨觀察的冷場電子槍可將樣品的細節放大，并獲得高質量的圖片。最大放大倍率也由之前的100萬倍提高到了800萬倍。除此之外，為了能更好的應對不同樣品的測試和保持并發揮出高性能，還對用戶輔助工能進行了強化。
日本電子掃描電鏡JSM-IT300型是一款高性能，多功能，多用途的鎢燈絲掃描電鏡。顛覆性的前衛性外觀設計還特別吸引眼球。操作改為觸摸屏控制，簡單化，從此操作電鏡非常只能化。
掃描電子顯微鏡主要用于觀察物體的表面形貌像，除此意外，如果配備能譜分析系統，在進行獲得樣品表面像的時候，還可以對樣品的某個定點位置進行元素的半定量分析。根據EDS分析出的元素比例，進行擬合處理，可以大概的判斷出樣品是什么類型的樣品。
德國Zeiss 場發射電子顯微鏡SIGMA 300 ，ZLGemini鏡筒，超高的束流穩定性，超高的束流穩定性，zhuo越的低電壓性能，In Lens 探測器，磁性材料高分辨觀察，ding級X射線分析設計，便越操作系統設計，超大空間，多接口，升級靈活。
德Zeiss 電子束直寫儀 Sigma SEM，利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結構（Z小線寬為10nm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應用于納米器件，光子晶體，低維半導體等前沿領域。
德國Zeiss 場發射電子顯微鏡SIGMA 300，專利Gemini鏡筒，超高的束流穩定性，卓越的低電壓性能，In Lens 探測器，磁性材料高分辨觀察，頂級X射線分析設計，便越操作系統設計，超大空間，多接口，升級靈活。
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