儀器網(wǎng)>產(chǎn)品中心>實驗室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>離子束刻蝕系統(tǒng) 更新時間：2026-02-03 01:44:54

離子束刻蝕系統(tǒng)

（共11件相關(guān)產(chǎn)品信息）

不知道怎么選為你提供選購方案發(fā)求購

產(chǎn)品產(chǎn)地：: 不限中國大陸大洋洲歐洲亞洲美洲

廠商性質(zhì)：: 不限自營代理經(jīng)銷

銷售地區(qū)：: 不限售全國售本省售本市

產(chǎn)品品牌：

不限
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z

日本ELIONIX

北京華測

美國那諾-馬斯特

美國Nano-Master

牛津儀器

收起參數(shù)(產(chǎn)地、種類、應(yīng)用領(lǐng)域)

綜合

銷售地區(qū)

不限

售全國

售本省

售本市
廠商性質(zhì)

不限

自營

代理

經(jīng)銷
價格由高到低
價格由低到高

參考報價

面議

美Nano-master IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000

品牌：美國Nano-Master 型號：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000, 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡介：IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺式 IBE 刻蝕系統(tǒng)
參考報價

面議

NANO-MASTER的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)

品牌：美國Nano-Master 型號：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡介：IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NANO-MASTER那諾-馬斯特的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu)
參考報價

面議

Nano-Master離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000

品牌：美國Nano-Master 型號：NIE-4000 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡介：NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
參考報價

面議

離子束刻蝕機(jī)

品牌：美國Nano-Master 型號：NIE-4000，NIR-4000 IBE/RIE 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡介：NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。
參考報價

面議

Ionfab 300 IBE 牛津離子束刻蝕機(jī)

品牌：牛津儀器型號：Ionfab 300 IBE 產(chǎn)地：歐洲英國

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡介：離子束刻蝕的靈活性、均勻性俱佳且應(yīng)用范圍廣。我們的設(shè)備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)配置與實際應(yīng)用緊密協(xié)調(diào)，以確保獲得速率更快且重復(fù)性更好的工藝結(jié)果。
參考報價

面議

Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) NOC-4000

品牌：美國Nano-Master 型號：NOC-4000 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

簡介：Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) NOC-4000,提供zuixian極n的原子級清洗、拋光以及光學(xué)鍍膜技術(shù)。
參考報價

面議

日本離子束刻蝕系統(tǒng)Elionix

品牌：日本ELIONIX 型號： EIS-200 產(chǎn)地：亞洲日本

廠商：深圳市科時達(dá)電子科技有限公司
參考報價

面議

那諾-馬斯特 NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕

品牌：美國那諾-馬斯特型號：NIE-3500（A）產(chǎn)地：美洲美國

廠商：那諾—馬斯特中國有限公司

簡介：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計算機(jī)控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
參考報價

面議

那諾-馬斯特 NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕

品牌：美國那諾-馬斯特型號：NIE-4000（M）產(chǎn)地：美洲美國

廠商：那諾—馬斯特中國有限公司

簡介：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。
參考報價

面議

離子束刻蝕系統(tǒng)

品牌：北京華測型號：ADVANCED 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：北京華測試驗儀器有限公司
參考報價

面議

離子束刻蝕 NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng) 那諾-馬斯特

品牌：美國那諾-馬斯特型號：NIE-4000 產(chǎn)地：美洲美國

廠商：那諾—馬斯特中國有限公司

簡介：NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)。

共11條
1

新品推薦: 離子束刻蝕 NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng) 那諾-馬斯特
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)。; 那諾-馬斯特 NIE-3500（A）全自動IBE離子束刻蝕
是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計算機(jī)控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。; 那諾-馬斯特 NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕
如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。除非可以找到有效的方式消除熱量，否則光刻膠將變得非常難以去除。; 日本離子束刻蝕系統(tǒng)Elionix; 離子束刻蝕系統(tǒng); 美Nano-master IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000
IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺式 IBE 刻蝕系統(tǒng); NANO-MASTER的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)： NIE-4000 獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIE-3500 緊湊型獨立式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NIR-4000 獨立式 IBE / RIE 雙刻蝕系統(tǒng) NIE-3000 臺式 IBE 刻蝕系統(tǒng) NANO-MASTER那諾-馬斯特的IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強(qiáng)的適應(yīng)性，可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu); Nano-Master離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000
NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對于硅的化合物也可以通過反應(yīng)離子束刻蝕的方式提高刻蝕速率和深寬比。