激光濺射沉積系統

1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數任意調節，對靶材的種類沒有限制； 4. 發展潛力巨大，具有極大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數任意調節，對靶材的種類沒有限制； 4. 發展潛力巨大，具有極大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。

脈沖激光沉積系統-PLD 型號：AP-PLD230 脈沖激光沉積系統(PLD)是將脈沖激光導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成薄膜材料。 我們PLD系統擁有Z好的性能價比, 用戶用Z少的錢買到研究級高性能的純進口PLD系統。

脈沖激光沉積是一種真空鍍膜技術。

基質輔助脈沖激光蒸發(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團新引入的技術，以促進某些功能有機材料的薄膜沉積?；赨V (5-6 eV)的傳統PLD技術中，光化學反應可能會惡化有機分子、聚合物等的功能。而在MAPLE中，通過將待沉積的有機物(或聚合物)與吸收激光波長的溶劑(基質)混合來制備特殊的靶。除了光學吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質的先決條件。